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È stato riferito che TSMC introdurrà macchine litografiche NA EUV elevate entro la fine dell'anno


Secondo i rapporti, TSMC dovrebbe ricevere il primo lotto delle macchine per la produzione di chip più avanzate al mondo del fornitore olandese ASML entro la fine di quest'anno, solo pochi mesi dopo il suo concorrente americano Intel.

Sono conosciuti come macchine litografiche NA EUV elevate e sono le attrezzature di produzione di chip più costose al mondo, con un prezzo di circa $ 350 milioni per unità.TSMC, Intel e Samsung sono attualmente gli unici produttori di chip globali ancora in competizione per produrre prodotti a semiconduttore più piccoli e più potenti e tutti si basano fortemente sulle attrezzature di ASML.

Secondo la fonte, TSMC installerà una nuova macchina litografica NA EUV alta nel suo centro di ricerca e sviluppo vicino alla sua sede a Hsinchu, Taiwan, in Cina, questo trimestre.Sono necessari ampi lavori di ricerca e ingegneria prima che le nuove attrezzature possano essere utilizzate per la produzione di chip su larga scala, ma le fonti affermano che TSMC ritiene che non sia necessario affrettare in azione."Sulla base degli attuali risultati di ricerca e sviluppo, non è necessario utilizzare l'ultima versione della macchina litografica NA EUV elevata, ma TSMC non esclude l'opportunità di condurre un lavoro completo di percorso e ingegneria e utilizzare le attrezzature più avanzate del settorePer le corse di prova.

Secondo fonti, TSMC può prendere in considerazione l'uso di queste macchine per la produzione commerciale dopo aver lanciato la tecnologia di produzione A10, probabilmente dopo il 2030. È stato riferito che la tecnologia A10 è circa due generazioni in più rispetto alla tecnologia 2NM prevista per TSMC da mettere in produzione entro la fine del 2025.

TSMC ha confermato che introdurranno questi nuovi dispositivi, ma non hanno divulgato alcun dettaglio specifico sui tempi di consegna o sulla produzione.La società ha dichiarato: "TSMC ha valutato attentamente le innovazioni tecnologiche come nuove strutture a transistor e nuovi strumenti e ha considerato la loro maturità, costi e benefici per i clienti prima di metterli in produzione di massa. TSMC prevede di introdurre prima le macchine di litografia elevata di Na EUV per la ricerca eSviluppo per sviluppare le infrastrutture e le soluzioni di pattern pertinenti necessarie ai clienti per guidare l'innovazione

In termini di adozione della macchina litografica ASML High Na EUV, Intel ha installato la prima serie di macchine litografiche NA EUV nel suo centro di ricerca e sviluppo in Oregon, negli Stati Uniti, nel dicembre 2023 e sta attualmente conducendo test per prepararsi alla produzione commerciale.Nel secondo trimestre di quest'anno, la seconda serie di macchine litografiche NA EUV di ASML è stata spedita a Intel.Recentemente, ci sono stati segnalazioni secondo cui Samsung Electronics si sta preparando a introdurre le sue prime attrezzature di litografia NA EUV all'inizio del 2025, segnando la prima incursione di Samsung nella tecnologia NA EUV elevata.In precedenza, la società aveva collaborato con IMEC sulla ricerca di elaborazione del circuito.Samsung prevede di accelerare lo sviluppo di nodi avanzati utilizzando i propri dispositivi e ha fissato l'obiettivo di commercializzare i processi da 1,4 nm entro il 2027, che potrebbe aprire la strada alla produzione di 1 Nm.

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